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HiSIM2被選為MOS晶體管模型的新標準

發布時間:2011-04-21 來源:技術在線

新聞事件:
  • “HiSIM2:Hiroshima-university STARC IGFET Model 2”已成為國際標準
事件影響:
  • 可模塊化的特點使諸如HiSIM_HV等擴展模型更容易開發

日本半導體理工學研究中心(STARC)宣布,其與廣島大學三浦研究室合作開發的電路模擬用MOS晶體管模型“HiSIM2:Hiroshima-university STARC IGFET Model 2”已成為國際標準。電路模擬用晶體管模型的國際標準化機構“Compact Model Council:CMC”在2011年3月31日和4月1日于美國舊金山舉行的會議上,選擇HiSIM2作為Bulk基板MOS晶體管的CMC標準模型。

HiSIM2是考慮了從MOS晶體管源極至漏極間電位分布的電位模晶體管型。與20世紀90年代開發的BSIM等將晶體管內部作為黑箱來處理的閾值電壓模型相比,可更準確地處理晶體管的動作。BSIM3和BSIM4都于20世紀90年代被選作CMC標準模型,但后來隨著微細化的發展,在準確度和處理時間(收斂性)上問題凸顯,因此CMC決定征集取代BSIM的新一代模型。

除準確度和收斂性出色外,HiSIM2還具有可模塊化的特點。因此,容易開發諸如HiSIM_HV等擴展模型。HiSIM_HV是在HiSIM2掌控的Bulk MOS晶體管模型旁邊增加漂移方面的模型而開發出來的。此外,在HiSIM_HV中增加BJT的模型就開發出了“HiSIM-IGBT”。HiSIM-IGBT是由豐田中央研究所和豐田汽車分別與廣島大學合作研發出來的。

另外,據STARC介紹,HiSIM2和HiSIM_HV的開發得到了日本獨立行政法人新能源產業技術綜合開發機構(NEDO)的資助,從而加速了標準化。
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